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產(chǎn)品名稱:

徠卡Ivesta3自動清潔度分析儀定制

產(chǎn)品類別:
徠卡Ivesta3自動清潔度分析儀是精密設(shè)計的零部件清潔度分析系統(tǒng),對過濾紙的殘留粒子進行檢測,自動區(qū)分金屬非金屬纖維顆粒,標(biāo)準(zhǔn)自定義,自動出報告,能對工件的清潔程度進行可靠和再現(xiàn)性的評估。
  • 詳細(xì)內(nèi)容

徠卡Ivesta3自動清潔度分析儀定制服務(wù)

徠卡Ivesta3自動清潔度分析儀定制


對不同尺寸的標(biāo)準(zhǔn)濾紙進行高精度掃描分析,并結(jié)合偏光光闌技術(shù)對顆粒進行反光和非反光的區(qū)分,以對金屬與非金屬顆粒的判定提供最直接的參考數(shù)據(jù)和影像。同時可依據(jù)不同長寬比的設(shè)定對纖維與非纖維進行精確分類,對于粘結(jié)顆??稍趯嶋H視場下進行確認(rèn)并采用數(shù)碼分割法進行分割,以確保實際判斷的準(zhǔn)確性。


一、Ivesta3自動清潔度分析儀產(chǎn)品特點:

全自動運行掃描,無縫拼接技術(shù)

經(jīng)過色差校正的高分辨率光學(xué)系統(tǒng)

采用像素解決方案

電腦控制和操作桿控制XY電動平臺

優(yōu)化色溫恒定LED光纖照明

簡單而快捷的操作界面

掃描過程中的實時結(jié)果

大的可靠性和重復(fù)性

自動計算金屬顆粒,非金屬顆粒,纖維顆粒

二.Ivesta3自動清潔度分析儀系統(tǒng)性能

圖像捕獲:具有高分辨率實時彩色圖像捕獲能力,可以實時動態(tài)捕獲圖像序列,并自動拼接成一張完整的濾膜全貌圖片,顆粒無明顯錯位,保證分析精度。

可以縮小放大,實時觀察大圖中任意地方的局部放大圖,也可以全圖觀察??苫乜慈魏我粋€顆粒。

一鍵流程化設(shè)計。

圖像標(biāo)定:根據(jù)光學(xué)放大倍數(shù)定標(biāo)圖像,為圖像測量提供測量基準(zhǔn)。

動態(tài)設(shè)定分析閾值:為以后全圖分析提供提取目標(biāo)的依據(jù)。

標(biāo)準(zhǔn)自定義加入:內(nèi)置ISO16232/VDA19標(biāo)準(zhǔn),用戶可以根據(jù)需要加入不同的分析標(biāo)準(zhǔn),或選擇已有標(biāo)準(zhǔn)進行分析。軟件支持現(xiàn)行多種標(biāo)準(zhǔn)進行分析。

金屬、非金屬、纖維區(qū)分,按照ISO16232/VDA19等國際標(biāo)準(zhǔn)統(tǒng)計分析。

自動檢測分辨出微粒類型(金屬、非金屬、纖維)

評價參數(shù)(長度、寬帶、面積、纖維長度)

根據(jù)不同的測量任務(wù)分別來設(shè)置和儲存相應(yīng)的配置

方便導(dǎo)出所有分析數(shù)據(jù)到EXCEL至數(shù)據(jù)庫

按照標(biāo)準(zhǔn)ISO 16232 計算工件清潔度代碼(CCC)

有效微粒處理(例如重疊微粒)

汽車清潔度顆粒檢測儀是精密設(shè)計的零部件清潔度分析系統(tǒng),對過濾紙的殘留粒子進行檢測,重要的是能對工件的清潔程度進行可靠和再現(xiàn)性的評估。

本清潔度分析系統(tǒng)采用10倍像素解決方案,確保分析精度。

全自動清潔度分析系統(tǒng)會自動將顆粒分為以下三類:

金屬顆粒:通常是關(guān)注的,并且是關(guān)鍵的顆粒。

非金屬顆粒,不含纖維:這些顆粒和金屬顆粒一樣是關(guān)鍵性污染物顆粒。

纖維:這些顆粒在測試的準(zhǔn)備和操作過程中是無法避免的。因此,即使有時候纖 維是濾膜上蕞大的顆粒,其關(guān)注度也是相對不高。

將顆粒預(yù)分為三類,可減少手動操作的工作量,并且蕞大限度的關(guān)注所有與實際操作相關(guān)的顆粒。

通過偏振鏡機構(gòu)對濾膜進行二次掃描,并實現(xiàn)對濾膜上金屬和非金屬顆粒 的統(tǒng)計和鑒別。 針對塑料、玻纖等同樣會產(chǎn)生反射的物體,系統(tǒng)會自動將其與金屬顆粒區(qū)分開,此方法有效的回避了被誤判為金屬顆粒的風(fēng)險。

備注:

本設(shè)備設(shè)計參考理論依據(jù)

1.ISO 16232-7/VDA19對顆粒屬性定義

2、ISO 16232-7/VDA19分辨率定義

3、根據(jù)VDA 19.1理論:弱化/避開小顆粒測試是近來的發(fā)展趨勢,只有少數(shù)特殊案例,其部件間隙容差非常小,會要求分析長度在5~50μm的顆粒,在實際常規(guī)案例中,長度在5~50μm的顆粒是沒有相關(guān)性的,而且對這么小的顆粒進行分析工作量十分巨大,甚至?xí)蔀橐环N工作阻礙。因此,現(xiàn)在已將大于50μm的顆粒分析作為標(biāo)準(zhǔn)要求。



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